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发表于 2007-10-25 10:30:33
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ニコン 縮小投影型露光装置「NSR-SF150」
尼康开发出吞吐量比原产品提高了54%的i线曝光设备“NSR-SF150”。能以180枚/时的速度处理300mm晶圆。分辨率为280nm,开口数(NA)为0.62,曝光范围为26mm×33mm。将于2007年第2季度开始上市。
吞吐量的提高是通过减轻工作台(Stage)重量、提高移动速度以及缩短晶圆的处理间隔来实现的。提高了吞吐量之后,工作台位置对准精度容易降低,但通过在以下2方面下功夫,位置对准精度比原来提高了30%,即25nm。
第1,采用不固定投影镜头,而是悬挂的“悬吊构造”,减小地板振动的影响。此次为尼康首次在曝光设备中采用这种构造。第2,减小驱动器等发热引起的晶圆周围温度偏差,抑制由空气的折射率偏差引起的位置对准精度的下降。
尼康将在2006年12月6~8日举行的“SEMICON JAPAN 2006”上展出此次的设备。
尼康开发出吞吐量增至1.5倍的i线曝光设备
尼康开发的i线曝光设备“NSR-SF150”吞吐量为180枚/时(按300mm的晶圆换算),比原机型提高了54%。
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网上找来的,但愿有所帮助。 |
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